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產品展示
  • HD-FT50NIR半導體膜厚測試儀

    半導體膜厚測試儀能測低至20納米的超薄薄膜,測量誤差小于1納米,最快每秒可測100次,重復測量精度高達0.05納米。廣泛應用于半導體與微電子制造、顯示面板、光學器件制造、生物醫學、汽車及新材料與新能源研發等領域,能滿足從晶圓鍍膜、顯示面板薄膜到光學元件鍍膜、醫用植入物涂層、汽車玻璃膜層及新能源薄膜的高精度厚度檢測需求,助力各行業提升產品質量與研發效率。

    型號:HD-FT50NIR
    更新日期:2026-03-10
    面議
  • HD-FT50NIR反射式光學膜厚儀

    反射式光學膜厚儀能測低至20納米的超薄薄膜,測量誤差小于1納米,最快每秒可測100次,重復測量精度高達0.05納米。廣泛應用于半導體與微電子制造、顯示面板、光學器件制造、生物醫學、汽車及新材料與新能源研發等領域,能滿足從晶圓鍍膜、顯示面板薄膜到光學元件鍍膜、醫用植入物涂層、汽車玻璃膜層及新能源薄膜的高精度厚度檢測需求,助力各行業提升產品質量與研發效率。

    型號:HD-FT50NIR
    更新日期:2026-03-10
    面議
  • HD-FT50UV非接觸式膜厚測量儀

    非接觸式膜厚測量儀能測低至20納米的超薄薄膜,測量誤差小于1納米,最快每秒可測100次,重復測量精度高達0.05納米。它采用雙光源組合,覆蓋紫外到紅外全光譜,抗干擾能力強,在振動或復雜環境下也能穩定工作。能滿足從晶圓鍍膜、顯示面板薄膜到光學元件鍍膜、醫用植入物涂層、汽車玻璃膜層及新能源薄膜的高精度厚度檢測需求,助力各行業提升產品質量與研發效率。

    型號:HD-FT50UV
    更新日期:2026-06-17
    89000
  • HD-FT50UV光學膜厚儀

    光學膜厚儀HD-FT50UV是一款精準又好用的薄膜厚度測量設備。它能測低至20納米的超薄薄膜,測量誤差小于1納米,最快每秒可測100次,重復測量精度高達0.05納米。它采用雙光源組合,覆蓋紫外到紅外全光譜,抗干擾能力強,在振動或復雜環境下也能穩定工作。廣泛應用于半導體與微電子制造、顯示面板、光學器件制造、生物醫學、汽車及新材料與新能源研發等領域。

    型號:HD-FT50UV
    更新日期:2026-06-17
    89000
  • HD-FT50UV反射膜厚測量儀

    反射膜厚測量儀HD-FT50UV是一款精準又好用的薄膜厚度測量設備。它能測低至20納米的超薄薄膜,測量誤差小于1納米,最快每秒可測100次,重復測量精度高達0.05納米。它采用雙光源組合,覆蓋紫外到紅外全光譜,抗干擾能力強,在振動或復雜環境下也能穩定工作。廣泛應用于半導體與微電子制造、顯示面板、光學器件制造、生物醫學、汽車及新材料與新能源研發等領域。

    型號:HD-FT50UV
    更新日期:2026-06-17
    89000
  • HD-FT50UV反射膜厚儀

    反射膜厚儀HD-FT50UV是一款精準又好用的薄膜厚度測量設備。它能測低至20納米的超薄薄膜,測量誤差小于1納米,最快每秒可測100次,重復測量精度高達0.05納米。它采用雙光源組合,覆蓋紫外到紅外全光譜,抗干擾能力強,在振動或復雜環境下也能穩定工作。廣泛應用于半導體與微電子制造、顯示面板、光學器件制造、生物醫學、汽車及新材料與新能源研發等領域。

    型號:HD-FT50UV
    更新日期:2026-06-17
    89000
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